अयस्क से टिन का निष्कर्षण निर्भर करता हैगुरुत्वाकर्षण एकाग्रता(प्लेसर/जलोढ़ टिन के लिए) इसके बादपाइरोमेटालर्जिकल गलाने(कैसिटेराइट की कमी, SnO₂) औरपरिष्कृतशुद्ध टिन के लिए. वर्कफ़्लो है:खनन → सांद्रण → भूनना → गलाना → शोधन.

जलोढ़ टिन संयंत्र गुरुत्वाकर्षण विभाजक फ़्लोचार्ट
1. मुख्य टिन खनिज
कैसिटराइट (SnO₂): प्राथमिक अयस्क (एसजी 6.8-7.1), ~78.8% एसएन।
प्लेसर/जलोढ़ निक्षेप: उच्च-ग्रेड, निम्न अशुद्धियाँ; लोड/शिरा अयस्क: निम्न ग्रेड, अधिक सल्फाइड (Fe, Cu, Pb, As)।
2. खनन
जलोढ़/प्लेसर: ड्रेज, सक्शन पंप, स्लुइस बॉक्स; कैसिटेराइट उच्च घनत्व द्वारा स्थिर हो जाता है।
कठोर-चट्टान/लोड: ड्रिल-विस्फोट करें, फिर कैसिटराइट को मुक्त करने के लिए कुचलें/पीसें।
3. एकाग्रता (40-70% एसएन तक अपग्रेड)
गुरुत्वाकर्षण पृथक्करण हावी है (कैसिटराइट गैंग की तुलना में बहुत सघन है, एसजी 2.6-3.0):
कुचलना और पीसना: अयस्क को 0.1-2 मिमी तक कम करें, कैसिटेराइट को मुक्त करें।
गुरुत्वाकर्षण पृथक्करण:
जिग मशीन: स्पंदित जल घनत्व के आधार पर स्तरीकृत होता है; सोना-जिग सिद्धांत, लेकिन कैसिटेराइट के लिए।
हिलती मेजें: विभेदक गति भारी कैसटेराइट को अलग करती है।
तैरने की क्रिया: सल्फाइड के लिए -संबद्ध टिन (जैसे, स्टैनाइट); Cu, Fe, Pb सल्फाइड को हटा देता है।
चुंबकीय/इलेक्ट्रोस्टैटिक पृथक्करण: आयरन, टंगस्टन, जिरकोन की अशुद्धियाँ दूर करता है।
उत्पाद: टिन सांद्रण (40-70% एसएन).
4. भूनना (एस, एएस, वाष्पशील हटा दें)
उद्देश्य: सल्फाइड (FeS₂ → SO₂) और आर्सेनिक (As₂O₃ गैस) का ऑक्सीकरण; आसानी से स्लैग हटाने के लिए Fe ऑक्साइड को परिवर्तित करता है।
स्थितियाँ: 550-800 डिग्री, वायु, प्रतिध्वनि/रोटरी भट्ठों में।
प्रतिक्रिया: 2FeS₂ {{1}O₂ → Fe₂O₃ + 4SO₂↑ 4FeAsS {{4}O₂ → 2Fe₂O₃ + As₄O₆↑ + 4SO₂↑
परिणाम: स्वच्छ SnO₂-समृद्ध कैल्सीन।
5. गलाना (SnO₂ को कच्चे टिन में कम करें, 90-95% Sn)
दो - चरण गलाने से पुनर्प्राप्ति अधिकतम हो जाती है (~97-98%)।
चरण 1: प्राथमिक प्रगलन
खिलाना: भुना हुआ सांद्र + कोक (अपचायक एजेंट) + चूना पत्थर (फ्लक्स, कम पिघलने वाला स्लैग बनाता है)।
भट्ठी: रिवरबेरेटरी, ऑसमेल्ट (टीएसएल), या इलेक्ट्रिक भट्टी; 1200-1400 डिग्री.
प्रतिक्रिया: SnO₂ + 2C → Sn(l) + 2CO↑ SnO₂ + CO → Sn(l) + CO₂↑
उत्पादों:
कच्चा टिन: 90-95% एसएन, Fe, Cu, Pb, Sb, Bi के साथ।
टिन-समृद्ध धातुमल: 8-16% एसएन (चरण 2 में पुनर्संसाधित)।
चरण 2: स्लैग गलाना (खोए हुए टिन को पुनः प्राप्त करना)
7. फ़्लोचार्ट सारांश
अयस्क → क्रश/ग्राइंड → ग्रेविटी/फ्लोटेशन सांद्रण (40-70% एसएन) → रोस्ट (550-800 डिग्री) → प्राइमरी स्मेल्ट (1200-1400 डिग्री, क्रूड टिन 90-95% एसएन) → स्लैग री - स्मेल्ट → फायर रिफाइन → इलेक्ट्रोरिफाइन → 99.99% शुद्ध टिन
मुख्य पैरामीटर और युक्तियाँ
गुरुत्वाकर्षण पृथक्करण: 0.074-2 मिमी कैसिटेराइट के लिए इष्टतम; मोटे के लिए जिग्स, जुर्माने के लिए टेबल।
भूनना: avoid overheating (>800 डिग्री) SnO₂ अस्थिरता को रोकने के लिए।
प्रगलन: C/SnO₂ अनुपात को नियंत्रित करें; अतिरिक्त C Fe को कम करता है, टिन को दूषित करता है।







